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応用事例・技術情報

【応用事例　File B-3】 励振状態の違いによるSI型MMFのEAFの変化を調べる

概要

損失の異なるSI型マルチモード光ファイバに当社限定空間励振光学系を使用して、励振状態の違いによるエンサークルドアンギュラーフラックスの変化を調べます。光源には850nmSLD光源を使用します。励振光学系は、当社限定空間励振光学系　M-Scope type Gを使用し、光ファイバ入射光のN.A.を変化させます。出射側は、当社製FFP計測光学系　M-Scope type Fを使用して放射角度分布画像を取得し、当社光ビーム解析モジュール　AP013によりエンサークルドアンギュラーフラックス解析を行います。

測定系

測定ブロック図
測定系の構成
  • エンサークルドアンギュラーフラックス計測装置
    • 光源
      • FCコネクタ出力型温調高安定SLD光源（850nm）　LSS002/850
    • 励振器
      • 限定空間励振光学系　M-Scope type G
      • 手動5軸ステージ付ファイバ測定用光学系架台　OP002-F5
    • 光学系
      • FFP計測光学系　M-Scope type F
      • 手動3軸ステージ付ファイバ測定用光学系架台　OP002-F3
    • 検出器
      • 高精度デジタルCCD検出器　ISA011
    • データ処理解析装置
      • 光ビーム解析モジュール　AP013

測定結果

入射N.A.を変化させた場合のエンサークルドアンギュラーフラックス解析結果のグラフを左図に示します。

グラフは、上からN.A.0.10→0.15→0.20→0.25→0.30→0.35と変化させた場合のEAF解析結果です。

これより、N.A.が0.1から大きくなっていき、励振光のN.A.が全モード励振に近くなるほど、エンサークルドアンギュラーフラックスの差がなくなっていくことがわかります。

測定系構成のポイント

  • 測定用光源の選択
    • 光学系は測定波長850nm帯の低コヒーレント光源として、当社製SLD光源　LSS002/850を使用しました。
  • 励振器の選択
    • 励振器は、入射N.A.を光学的に連続可変可能な、当社製　限定空間励振光学系　M-Scope type Gを使用しました。
  • 光学系の選択
    • 光学系は、エンサークルドアンギュラーフラックス測定を目的とするため、FFP像を解析する必要があります。このため、当社製FFP計測光学系　M-Scope type Fを使用しました。

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